[发明专利]一种光波导及其制作方法在审
| 申请号： | 202010044717.1 | 申请日： | 2020-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN111208606A | 公开（公告）日： | 2020-05-29 |
| 发明（设计）人： | 唐波;张鹏;李志华;李彬;刘若男 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G02B6/132 | 分类号： | G02B6/132;G02B6/136;G02B6/138;G02B6/122 |
| 代理公司： | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人： | 房德权 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体工艺技术领域，尤其涉及一种光波导及其制作方法，该方法包括：提供一衬底；在衬底上表面形成第一下包层；在衬底下表面形成第二下包层；在第一下包层上表面形成波导结构；在第一下包层上表面和波导结构上形成第一上包层；在第二下包层下表面形成第三下包层；在第一上包层上表面形成第二上包层；在第三下包层下表面形成第四下包层，通过在硅片正反面多次沉积相同材料的方法，将圆片正反面进行应力匹配，有效避免了由于单面沉积膜本身应力过大或者由于单面沉积膜过厚且高温退火释放应力造成的硅片翘曲，进而改善了硅片翘曲的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 波导 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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