[发明专利]投射曝光设备的光学系统在审
| 申请号： | 202010016457.7 | 申请日： | 2020-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN111427239A | 公开（公告）日： | 2020-07-17 |
| 发明（设计）人： | M.帕特拉 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种EUV中操作的微光刻投射曝光设备的光学系统。光学系统包括：至少一个影响偏振的布置，其至少具有一个第一双反射表面单元和一个第二双反射表面单元，它们各具有第一反射表面和第二反射表面。在相同的双反射表面单元内，第一反射表面和第二反射表面以距离d1且以0°±10°的角度直接相邻地布置。第一双反射表面单元的第一反射表面和第二双反射表面单元的第二反射表面以距离d2且以0°±10°的角度直接相邻地布置。在第一反射表面上入射的光与第一反射表面形成的角度为43°±10°，特别是43°±5°。在操作光学系统期间，将在第一双反射表面单元的第一反射表面上入射的光反射朝向第二双反射表面单元的第二反射表面。对于距离d1和d2，以下是成立的：d2＞5*d1。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 曝光 设备 光学系统 | ||
【主权项】：
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