[发明专利]陶瓷的处理方法及陶瓷构件有效
| 申请号： | 201980061344.4 | 申请日： | 2019-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN112739667B | 公开（公告）日： | 2023-02-17 |
| 发明（设计）人： | 小山原嗣;仓瀬雅弘;堀田敏夫;西田房俊;山本英辅;筱崎彰浩;沓名宗春 | 申请（专利权）人： | 新和工业株式会社 |
| 主分类号： | C04B41/91 | 分类号： | C04B41/91;B23K26/364;C23C4/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明对激光处理作为陶瓷基材的表面处理的预处理时，通过在陶瓷基材的表面上形成几乎可以均匀地填充表面处理材料的沟槽，以制备能够以高强度与填充在沟槽中的表面处理材料紧密附着的陶瓷构件。通过用激光照射陶瓷基材C1的表面，在所述表面上设置凹面沿至少一个方向延伸而形成的多个沟槽，将所述表面上相邻的所述沟槽彼此之间设为平面。所述相邻的沟槽彼此的间距设为0.05mm以上且0.30mm以下。一个所述沟槽随着深度的增加而宽度变窄，在与所述一个方向正交的截面中最大宽度处朝所述一个沟槽的深度方向上的一侧开口。在所述一个沟槽中长径比为0.5以上且1.3以下，开口率为70％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 陶瓷 处理 方法 构件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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