[发明专利]溅射靶以及磁性膜有效
| 申请号： | 201980007232.0 | 申请日： | 2019-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN111566253B | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 岩渊靖幸;增田爱美;小庄孝志 | 申请（专利权）人： | JX金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;G11B5/65;G11B5/851 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种溅射靶，其含有0.001mol％～0.5mol％的Bi、45mol％以下的Cr、45mol％以下的Pt、60mol％以下的Ru、合计1mol％～35mol％的金属氧化物，剩余部分包含Co和不可避免的杂质。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 以及 磁性 | ||
【主权项】：
暂无信息
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