[实用新型]微图文转印用真空层压曝光装置有效
| 申请号： | 201921378237.8 | 申请日： | 2019-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN210348193U | 公开（公告）日： | 2020-04-17 |
| 发明（设计）人： | 冯煜;周永南;袁顺年 | 申请（专利权）人： | 江阴通利光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214411 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及微图文转印用真空层压曝光装置，其特征在于，包括装置主体和压盖，装置主体包括工作台面、若干组支撑脚、定位部件、压板和若干相互平行的紫外灯，压盖包括压盖主体、硅胶垫，在压盖主体的下沿边缘设有若干第一限位块和若干安装座内嵌槽，第一限位块设有插销孔；工作台面包括长方形滑槽、纵向滚珠丝杠滑道、横向滚珠丝杠安装孔、若干压盖安装座、抽真空孔；定位部件包括滑轨、横向滚珠丝杠、第二限位块、纵向滚珠丝杠滑槽、纵向滚珠丝杠、第一定位组件和第二定位组件；压板设有若干吸附孔。本实用新型不仅解决了光掩模版和薄膜基板快速精准对以及压合过程中由于受力过大而导致光掩模版受损的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 图文 转印用 真空 层压 曝光 装置 | ||
【主权项】：
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