[实用新型]一种接地电极结构及具有该接地电极的等离子腔室有效
| 申请号： | 201920790119.1 | 申请日： | 2019-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN209982805U | 公开（公告）日： | 2020-01-21 |
| 发明（设计）人： | 张志强;丁伟;彭帆 | 申请（专利权）人： | 上海稷以科技有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;G03F7/42 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200240 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本实用新型技术方案公开了一种接地电极结构及具有该接地电极的等离子腔室，应用于射频等离子去胶，其中，在所述接地电极的表面边缘位置处朝向中心位置处依次开设尺寸逐渐递减的多个穿孔圈。通过将接地电极表面的穿孔圈尺寸设置为由边缘位置处朝向中心位置处逐渐递减，降低了边缘位置处的气体的电离强度和等离子的密度，从而减小了接地电极和功率电极的中心位置处的去胶速率，提高了去胶均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 接地电极 中心位置处 去胶 边缘位置 逐渐递减 穿孔 表面边缘位置 接地电极结构 本实用新型 等离子腔室 射频等离子 尺寸设置 功率电极 等离子 电离 均匀性 减小 应用 | ||
【主权项】：
1.一种接地电极结构，应用于射频等离子去胶，其特征在于，在所述接地电极的表面边缘位置处朝向中心位置处依次开设尺寸逐渐递减的多个穿孔圈。/n
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