[实用新型]一种沉积装置及一种原子层沉积设备有效
| 申请号： | 201920291631.1 | 申请日： | 2019-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN209619447U | 公开（公告）日： | 2019-11-12 |
| 发明（设计）人： | 李哲峰;郑文岸 | 申请（专利权）人： | 深圳市原速光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种沉积装置包括以中空壳体为反应腔、与反应腔连通的供给单元，其中供给单元包括反应物传输模块，反应物传输模块与反应单元可拆卸连接。一种原子层沉积设备，包括机架和上述沉积装置，可用于粉末表面包裹层的制备。本实用新型可以有效地解决沉积不同薄膜材料时出现的交叉污染及ALD沉积颗粒包覆层不完整的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积装置 原子层沉积设备 传输模块 供给单元 反应腔 反应物 本实用新型 可拆卸连接 薄膜材料 反应单元 粉末表面 交叉污染 中空壳体 包裹层 颗粒包 有效地 覆层 可用 沉积 制备 连通 | ||
【主权项】：
1.一种沉积装置，其特征在于，包括：反应单元，包括具有中空结构的壳体，该中空结构形成对被沉积体实施沉积的反应腔；供给单元，与所述反应腔连通，所述供给单元包括反应物传输模块；其中，所述反应物传输模块与所述反应单元可拆卸连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市原速光电科技有限公司，未经深圳市原速光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201920291631.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
