[发明专利]一种晶圆及其切割方法在审

专利信息
申请号: 201911377692.0 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN111029331A 公开(公告)日: 2020-04-17
发明(设计)人: 姜域;殷昌荣;汪秀全;袁鹏 申请(专利权)人: 上海艾为电子技术股份有限公司
主分类号: H01L23/544 分类号: H01L23/544;H01L21/78
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 杨华
地址: 201199 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种晶圆及其切割方法,包括多个曝光区,至少一个曝光区包括呈矩阵排列的多个功能区,相邻行的所述功能区之间具有第一划片道,相邻列的所述功能区之间具有第二划片道;所述功能区包括第一功能区和第二功能区,所述第一功能区内设有芯片,所述第二功能区内设有测试电路。由于相邻行的功能区之间具有第一划片道,相邻列的功能区之间具有第二划片道,因此,可以对第一划片道和第二划片道进行切割来将芯片分离开来,并且,由于测试电路不再设置在芯片之间的划片道内,因此,也不会出现因切割测试电路而导致刀片变钝以及芯片边缘出现崩缺等问题。
搜索关键词: 一种 及其 切割 方法
【主权项】:
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