[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201911148540.3 申请日: 2019-11-21
公开(公告)号: CN110890050B 公开(公告)日: 2022-07-12
发明(设计)人: 饶娉 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G09G3/20 分类号: G09G3/20;G09F9/00
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 徐世俊
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置,所述阵列基板包括基底、设置于所述基底一侧的像素电路层、以及设置于所述基底背向所述像素电路层一侧的功能电路层,其中,所述基底具有孔结构,且所述功能电路层中的功能电路通过所述孔结构与所述像素电路层中的像素电路电连接。本发明通过将功能电路层设置于基底背向像素电路层的一侧,有效的减少了阵列基板以及显示装置边框的宽度,提高了屏占比,实现了窄边框显示屏,并提高了基板的利用率,节约了模组材料,节省了制作成本。
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
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