[发明专利]一种硅片检测系统在审
| 申请号： | 201911139211.2 | 申请日： | 2019-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN110736754A | 公开（公告）日： | 2020-01-31 |
| 发明（设计）人： | 贾永前;樊欢欢;董慧 | 申请（专利权）人： | 晶海洋半导体材料(东海)有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/94 | 分类号： | G01N21/94 |
| 代理公司： | 31300 上海华诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐颖聪 |
| 地址： | 222000 江苏省连*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种硅片检测系统，包括：第一皮带轮和第二皮带轮，第一皮带轮和第二皮带轮间隔开设置形成间隔空间，第一皮带轮上套设有第一皮带，第二皮带轮上套设有第二皮带，第一皮带能够传送硅片至第二皮带上；在第一皮带和第二皮带的下方分别设置至少一个光源；具有反光缝反光罩，反光罩设在光源的下方且间隔空间位于反光罩的上方；相机设在反光罩的下方且相机的镜头朝向反光缝以拍摄经过间隔空间的硅片的表面。将光源设在皮带的下方，避免产生皮带阴影，光源发出的光线经过反光罩的反射后投射向硅片的下表面，能产生均匀亮度，当有硅片的下表面有油污时，便于精确地检测，提高硅片表面油污检测的精确度。 | ||
| 搜索关键词： | 皮带 皮带轮 反光罩 硅片 光源 间隔空间 下表面 油污 反光 上套 相机 硅片检测系统 硅片表面 检测 反射 投射 传送 阴影 镜头 拍摄 | ||
【主权项】：
1.一种硅片检测系统，其特征在于，包括：/n第一皮带轮(10)和第二皮带轮(20)，所述第一皮带轮(10)和所述第二皮带轮(20)间隔开设置形成间隔空间，所述第一皮带轮(10)上套设有第一皮带(11)，所述第二皮带轮(20)上套设有第二皮带(21)，所述第一皮带(11)能够传送硅片至所述第二皮带(21)上；/n多个光源(30)，在所述第一皮带(11)和所述第二皮带(21)的下方分别设置至少一个所述光源(30)；/n反光罩(40)，所述反光罩(40)设在所述光源(30)的下方且所述间隔空间位于所述反光罩(40)的上方，所述反光罩(40)上形成有反光缝(41)；/n相机(50)，所述相机(50)设在所述反光罩(40)的下方且所述相机(50)的镜头朝向所述反光缝(41)以拍摄经过所述间隔空间的硅片的表面。/n
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