[发明专利]一种激光热模光刻图像反转胶及其光刻方法

摘要

本发明公开了一种激光热模光刻图像反转胶及其光刻方法。其特征在于所述技术基于激光热模光刻技术，采用激光直写光刻机在GexTe1‑x硫系相变薄膜材料上直写曝光，利用曝光区在碱性显影液中腐蚀速率高于非曝光区的特性，呈现正性光刻胶性质；利用曝光区在酸性显影液中腐蚀速率低于非曝光区的特性，呈现负性光刻胶性质。该新型图像反转胶适合于物理沉积，薄膜均匀性可控，在玻璃、硅和镀铬表面附着力好，通过选择不同PH值的显影液，实现正负胶的反转。本发明实施案例基于激光热模光刻技术实现了一种无机图像反转胶，可以简化工艺节约材料，具有大的工艺宽容度，可应用于光学器件加工，掩膜制作等领域。