[发明专利]一种条纹去除方法、装置、电子设备及存储介质有效

专利信息
申请号: 201910898628.0 申请日: 2019-09-23
公开(公告)号: CN110689494B 公开(公告)日: 2020-10-20
发明(设计)人: 王宇翔;汪国平;沈均平;任芳 申请(专利权)人: 北京航天宏图信息技术股份有限公司
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G06T5/40
代理公司: 北京超成律师事务所 11646 代理人: 许书音
地址: 100144 北京市海*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请提供一种条纹去除方法、装置、电子设备及存储介质,用于改善对不同频率的高光谱图像进行条纹去除时效果不好的问题。该方法包括:分别计算影像矩阵的各列平均值和影像矩阵的各列均方差,获得第一平均值向量和第一均方差向量;分别对第一平均值向量和第一均方差向量进行谐波正变换和谐波逆变换,获得第二平均值向量和第二均方差向量;根据第一平均值向量、第一均方差向量、第二平均值向量和第二均方差向量对影像矩阵进行去除条纹处理,获得去除条纹后的影像矩阵。在上述的实现过程中,基于统计学理论基础上,采用了信号领域中时频分析方法,可对不同频率的条纹同时去除,从而有效地提高对不同频率的条纹进行去除时的效果。
搜索关键词: 一种 条纹 去除 方法 装置 电子设备 存储 介质
【主权项】:
1.一种条纹去除方法,其特征在于,包括:/n分别计算影像矩阵的各列平均值和所述影像矩阵的各列均方差,获得第一平均值向量和第一均方差向量;/n分别对所述第一平均值向量和所述第一均方差向量进行谐波正变换和谐波逆变换,获得第二平均值向量和第二均方差向量;/n根据所述第一平均值向量、所述第一均方差向量、所述第二平均值向量和所述第二均方差向量对所述影像矩阵进行去除条纹处理,获得去除条纹后的影像矩阵。/n
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