[发明专利]一种提高LF石墨电极使用寿命的浸渍液在审

专利信息
申请号: 201910833441.2 申请日: 2019-09-04
公开(公告)号: CN110526742A 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 刘敏;刘伟;温荣宇;孙振宇;李俊峰;张月 申请(专利权)人: 鞍钢股份有限公司
主分类号: C04B41/87 分类号: C04B41/87
代理公司: 21224 鞍山嘉讯科技专利事务所(普通合伙) 代理人: 徐喆<国际申请>=<国际公布>=<进入国
地址: 114000 *** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种提高LF石墨电极使用寿命的浸渍液,按重量百分比成分组成:SiO2:≤25%;Al2O3:≤5.0%;ZrO2:≤0.5%;P2O5≤5.0%;B2O3:≤0.5%;H2O:≥60%。利用该浸渍液浸渍石墨电极,生成薄膜,再置入烘烤设备,温度在60‑220℃,烘烤24小时以上,烘烤后石墨电极的氧化温度达到1450℃,从根本上减少了无功消耗。
搜索关键词: 石墨电极 浸渍液 烘烤 浸渍石墨电极 重量百分比 烘烤设备 使用寿命 置入 薄膜 消耗
【主权项】:
1.一种提高LF石墨电极使用寿命的浸渍液,其特征在于,按重量百分比成分组成:SiO2:≤25%;Al2O3:≤5.0%;ZrO2:≤0.5%;P2O5≤5.0%;B2O3:≤0.5%;H2O:≥60%。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鞍钢股份有限公司,未经鞍钢股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910833441.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 一种陶瓷表面黑色分子吸附层微波烧结制备方法-201910987635.8
  • 魏强;潘娅婷;院小雪;张立宪 - 天津大学
  • 2019-10-17 - 2020-01-10 - C04B41/87
  • 本发明公开了一种陶瓷表面黑色分子吸附层微波烧结制备方法,该方法包括对陶瓷基体表面亲水化处理;将分子筛、黑化剂和黑色二氧化钛按比例混合球磨后,均匀溶于去离子水得到涂覆液;将陶瓷浸渍于涂覆液中,形成分子筛/黑化剂涂层;最后将涂覆黑化吸附层的陶瓷置于微波炉中烧结制备。相对于传统的陶瓷表面分子筛膜制备工艺,本发明采用微波烧结工艺在陶瓷基体表面制备分子筛/黑化剂吸附涂层,改良了烧结工艺,制备时间短,成本较低,对环境污染小,吸附特殊密闭环境内的有害气体;该涂层为黑色,可降低光的散射作用;涂层具有一定的吸附能力;涂层结合力不易剥落,无粉末飞扬,具有绿色环保等优点。
  • 牙科切削加工用氧化锆被切削体及其制造方法以及透明性提高液及其使用方法-201880013137.7
  • 伴清治;高桥周平;北村敏夫;飨场理惠子 - 株式会社松风
  • 2018-02-20 - 2020-01-10 - C04B41/87
  • 本发明提供一种氧化锆完全烧结体,其维持高强度,同时具有比由各种含有稳定化材料的氧化锆原料粉末制造出的牙科切削加工用氧化锆被切削体优异的透光性以及优异的色调的彩度,并且,不产生变形。本发明的牙科切削加工用氧化锆被切削体为含有陶瓷粒子的半烧成体的半烧成牙科切削加工用氧化锆被切削体,牙科切削加工用氧化锆被切削体包含:氧化锆;含有氧化物的稳定化材料;以及水溶性化合物盐,其含有选自钙、镁以及稀土元素中的至少一种元素,且不是氧化物,陶瓷粒子的半烧成体中的稳定化材料的量为2~7mol%,并且,牙科切削加工用氧化锆被切削体中的水溶性化合物盐的量为0.1~3.5mol%。
  • 适用于陶瓷膜片镀膜工艺的挂篮-201920466071.9
  • 钟英杰;杨臧健 - 浙江中诚环境研究院有限公司
  • 2019-04-08 - 2019-12-24 - C04B41/87
  • 本实用新型提供一种适用于陶瓷膜片镀膜工艺的挂篮,所述挂篮包括挂篮、多个挂杆以及多个插槽板。框架的内部形成一个空腔。所有的挂杆间隔地设置于框架的边沿并从框架的边沿向外延伸,挂杆用于供人工或机械的方式抓取搬运。所有的插槽板间隔分布于框架的空腔内,每一插槽板具有多个间隔齿并相应地形成多个插槽,使用时陶瓷膜片的两端分别插在两个插槽板相对的两个插槽中。这样挂篮内就可以竖直地间隔插放很多片陶瓷膜片。在镀膜生产时,可以直接将装满陶瓷膜片的挂篮浸没在液体中并停留一段时间,完成镀膜;然后将挂篮取出并层叠摆放,以晾干陶瓷膜片,这样大大方便了陶瓷膜片的镀膜、晾干工艺,缩短工时。
  • 一种氧化锆陶瓷表面镀覆的二氧化锆纳米管薄膜涂层和氧化锆陶瓷牙科冠桥修复体-201822084566.3
  • 王辰;张耿民;许亦权;梁莉;陈燕辉;韩雪;杨楠 - 中国人民解放军总医院第八医学中心
  • 2018-12-12 - 2019-12-17 - C04B41/87
  • 本实用新型公开了一种氧化锆陶瓷表面镀覆的二氧化锆纳米管薄膜涂层,所述薄膜涂层包括锆微米膜和二氧化锆纳米管层,锆微米膜位于所述氧化锆陶瓷与二氧化锆纳米管层之间,分别与氧化锆陶瓷和二氧化锆纳米管层接合,用于连接氧化锆陶瓷和二氧化锆纳米管层。本实用新型先以离子镀膜技术在氧化锆陶瓷表面镀以锆膜,再通过阳极氧化将锆膜部分氧化成二氧化锆纳米管。本实用新型将物理镀膜和电化学氧化方法结合后,成功地在化学惰性极强的氧化锆陶瓷表面制备出纳米管结构的薄膜涂层,有效提高了粘接剂在氧化锆陶瓷表面的润湿性,可明显增强氧化锆陶瓷与粘接剂的粘接强度,极大改善了氧化锆陶瓷的粘接性能,实现其在牙科修复体中更广泛的临床应用。
  • 一种介质印刷浆料及其制备方法-201910988441.X
  • 石吉伟;曾雨;杨晓东;倪福松;梁丽 - 四川华瓷科技有限公司
  • 2019-10-17 - 2019-12-03 - C04B41/87
  • 本发明公开了一种超细晶介质印刷浆料的制备方法及其由该方法获得的产品,包括如下步骤:第一步,向球磨罐加入超细晶介质粉体,低沸点溶剂,分散剂,球磨分散;第二步,加入高沸点溶剂,粘合剂,增塑剂,稀释剂,球磨。第三步,采用滤网过滤出料,出料后的浆料用超声处理,在抽风负压条件下搅拌,使低沸点溶剂完全挥发,调整粘度至22000~36000mPa·S,得超细晶介质印刷浆料,解决了现有技术存在的制浆方式容易出现细晶粉体分散不均匀、易沉淀的问题。
  • 一种碳化硅单晶生长热场结构中的石墨板涂层的制备方法-201611125970.X
  • 高宇;杨继胜;杨昆;郑清超 - 河北同光晶体有限公司
  • 2016-12-09 - 2019-11-29 - C04B41/87
  • 本发明的碳化硅单晶生长热场结构中的石墨板涂层的制备方法,包括如下步骤:1)制备TaCl5正丁醇溶液;2)将多孔石墨板浸入上述溶液内,使多孔石墨板空隙表面完全被饱和溶液浸润;3)将浸润后的多孔石墨板烘干;4)将步骤3)制备好的多孔石墨板放入真空炉内,进行升温煅烧;5)重复步骤1)‑4)的过程,多孔石墨表面形成致密的TaC涂层;6)将步骤5)制备好的多孔石墨板放入真空炉内,煅烧5‑10小时;由于TaC镀层在高温下可以抗碳化硅蒸汽、硅蒸汽腐蚀,因此避免多孔石墨材料在碳化硅生长气氛下粉化,能在晶体生长全周期内起到更好的过滤原料中碳微粒的作用,从而进一步减少晶体内碳包裹物密度。
  • 氧化钛晶种涂层负载方法-201910826893.8
  • 胡金朋;王思博;郭彦炳;陈松华;杨纪恩 - 福建龙新三维阵列科技有限公司
  • 2019-09-03 - 2019-11-26 - C04B41/87
  • 本发明提供了一种氧化钛晶种涂层负载方法,包括:S1,清洗堇青石蜂窝基底;S2,将三氯化钛与水按照体积比1:8~1:12混合,搅拌均匀得到蓝紫色的溶液;S3,将清洗后的堇青石蜂窝基底缓慢浸入到配置的溶液中,并使其孔道垂直向上;S4,使溶液浸入到堇青石蜂窝基底孔道中;S5,将堇青石蜂窝基底从溶液中缓慢取出,吹扫掉孔道中残留的液体;S6,将浸润过的堇青石蜂窝基底保持孔道水平放置后干燥;S7,将干燥后的堇青石蜂窝基底在400‑700℃温度下煅烧2‑10小时;S8,重复步骤S3~S7以调整基底表面负载的二氧化钛晶种数量及密度。
  • 多晶硅铸锭坩埚底部氮化硼涂层材料及其涂覆方法-201610694654.8
  • 贺鹏;刘波波;吴增伟;蔺文 - 西安华晶电子技术股份有限公司
  • 2016-08-19 - 2019-11-26 - C04B41/87
  • 本发明公开了一种多晶硅铸锭坩埚底部氮化硼涂层材料,由以下重量份的原料制成:有机胶结剂1份,去离子水2~2.5份,氮化硼0.8~1.2份,该涂层材料以氮化硼作为主要原料,能增大坩埚底部导热效果,并能降低坩埚底部氧含量,并且稳定性好,铸锭过程中不易形成硬质点,能有效保证铸锭成品的质量。同时,本发明还公开了一种将氮化硼涂层材料在多晶硅铸锭坩埚底部涂覆的方法,包括步骤:一、涂层喷涂液配制;二、喷涂:坩埚内部底面上1m2区域内喷涂的涂层喷涂液中所含氮化硼的质量为100~200g;三、烘干;该涂覆方法简单、设计合理且使用效果好,能简便、快速且高质量完成坩埚底部涂层的涂覆过程,所制作底部涂层的使用效果好。
  • 一种粉煤灰基陶瓷膜孔径的调控方法及粉煤灰基陶瓷膜-201910711854.3
  • 吕玉珍;陈海平;李明哲;张云涛 - 华北电力大学
  • 2019-08-02 - 2019-11-19 - C04B41/87
  • 本发明公开了一种粉煤灰基陶瓷膜孔径的调控方法,包括如下步骤:(1)配制反应溶液:其中,溶质占20wt%~80wt%;溶剂是醇类有机溶剂中的任意一种;溶质包括钛盐、铝盐、硅盐中的一种或多种;(2)浸泡处理:粉煤灰基陶瓷支撑体在反应溶液中浸泡;(3)水解反应:支撑体内部浸入的溶质与空气中的水分发生反应形成前驱体;(4)煅烧处理:水解形成的前驱体分解形成氧化物晶粒,氧化物晶粒在粉煤灰基陶瓷支撑体内部的孔隙中形核长大,对粉煤灰基陶瓷支撑体的孔径进行调节。本发明同时公开了由上述调控方法获得的粉煤灰基陶瓷膜,其中,氧化物晶粒在支撑体孔隙内直接形核长大,陶瓷膜与支撑体结合力强,并且陶瓷膜中的孔径分布均匀。
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top