[发明专利]等离子体工序监控装置及包括其的等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201910387865.0 | 申请日： | 2019-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN110504150B | 公开（公告）日： | 2021-12-28 |
| 发明（设计）人： | 尹日求 | 申请（专利权）人： | 延世大学校产学协力团 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人： | 郑青松 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的等离子体工序监控装置包括选择区域透光部及监控部。选择区域透光部以与形成于腔室的视口相向的方式配置，设置有用于选择性地阻隔通过视口发射的等离子光的多个选择性遮光部。监控部通过接收透过多个选择性遮光部中的至少一个的等离子光，来获取等离子光的信息，通过等离子光的信息，来监控形成于腔室内的等离子体的均匀度。等离子体处理装置包括腔室、视口、选择区域透光部以及监控部。腔室用于执行利用等离子体的工序。视口设置于腔室。选择区域透光部以与视口相向的方式配置，设置有用于选择性地阻隔通过视口发射的等离子光的多个选择性遮光部。监控部获取等离子光的信息，监控形成于腔室内的等离子体的均匀度。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 工序 监控 装置 包括 处理 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体工序监控装置，其特征在于，包括：/n选择区域透光部，以与形成于腔室的视口相向的方式配置，设置有用于选择性地阻隔通过上述视口发射的等离子光的多个选择性遮光部；以及/n监控部，通过接收透过多个上述选择性遮光部中的至少一个的等离子光，来获取上述等离子光的信息，通过上述等离子光的信息，来监控形成于上述腔室内的等离子体的均匀度。/n
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