[发明专利]一种研磨设备和研磨台的调节方法有效
| 申请号： | 201910372442.1 | 申请日： | 2019-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN110064999B | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 崔世勋;具成旻 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B37/34;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提供一种研磨设备和研磨台的调节方法。研磨设备包括：研磨台，配置为可绕自身的轴线转动，所述研磨台具有承载面，所述承载面用于承载研磨垫；晶圆固定组件，与所述研磨台的承载面相对设置；调节组件，与所述研磨台传动相连，所述调节组件用于在所述研磨设备处于研磨状态时，驱动所述研磨台沿所述研磨台的轴线方向移动。本发明实施例通过设置能够驱动所述研磨台沿所述研磨台的轴线方向移动的调节组件，在研磨垫不断消耗的过程中，能够通过该调节组件带动研磨台向靠近晶圆的方向移动，从而使得研磨垫和晶圆之间的距离保持相对固定，降低了由于研磨垫与晶圆之间的距离发生变化而对研磨效果产生影响的可能性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 设备 调节 方法 | ||
【主权项】：
1.一种研磨设备，其特征在于，包括：研磨台，配置为可绕自身的轴线转动，所述研磨台具有承载面，所述承载面用于承载研磨垫；晶圆固定组件，与所述研磨台的承载面相对设置；调节组件，与所述研磨台传动相连，所述调节组件用于在所述研磨设备处于研磨状态时，驱动所述研磨台沿所述研磨台的轴线方向移动。
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