[发明专利]一种PEIE介入标准倒置QLED器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910284885.5 申请日: 2019-04-10
公开(公告)号: CN111816794B 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 杜祖亮;王书杰;张梦华;王啊强;方岩 申请(专利权)人: 河南大学
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/50;H01L51/54
代理公司: 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 代理人: 时立新;张丽
地址: 475001*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 一种PEIE介入标准倒置QLED器件及其制备方法,包括如下步骤:(1)在柔性衬底上沉积ZnO电子注入层;(2)在ZnO电子注入层上旋涂PEIE溶液,制得界面修饰层A;(3)在界面修饰层A上沉积量子点发光层,所述量子点发光层的材料为ZnCdSeS/ZnS绿光量子点;(4)在量子点发光层上沉积PEIE溶液,制得界面修饰层B;(5)在界面修饰层B上沉积空穴传输层和空穴注入层,所述的空穴传输层为PVK、TFB、poly‑TPD、TCTA、CBP中的一种或多种,所述的空穴注入层为PEDOT:PSS;(5)蒸镀顶电极,所述顶电极为Al、Ag、Cu、Au或合金电极;待器件蒸镀完成后,对其进行封装即可。
搜索关键词: 一种 peie 介入 标准 倒置 qled 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
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