[发明专利]可调制触发电压的ESD保护装置及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910260093.4 申请日: 2019-04-02
公开(公告)号: CN109935584B 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 姜一波;毕卉;徐志豪;江情男;施程 申请(专利权)人: 常州工学院
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L21/82
代理公司: 常州西创专利代理事务所(普通合伙) 32472 代理人: 张磊
地址: 213032 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种可调制触发电压的ESD保护装置及其制备方法,在装置内形成一个或者多个隧穿二极管。在寄生结构上以齐纳二极管替代雪崩二极管,在击穿原理上以隧穿击穿替代雪崩击穿,从而改变寄生SCR的电学击穿点,有效地降低触发电压,并根据结构的变化对触发电压进行调制。同时,公开了一种可调制触发电压的ESD保护装置制备方法,用以制备该可调制触发电压的ESD保护装置。调制触发电压形成的可调制触发电压的ESD保护装置,能够满足FinFET工艺下ESD保护窗口要求,确保触发电压低于被保护单元的损伤电压。
搜索关键词: 调制 触发 电压 esd 保护装置 及其 制备 方法
【主权项】:
1.可调制触发电压的ESD保护装置,其特征在于,包括:触发调制(101);半导体衬底(102);位于半导体衬底内的阱区(103);鳍片之间的隔离结构(104);与阱区掺杂类型相反的鳍片区域(105);与阱区掺杂类型相同的鳍片区域(106);与衬底掺杂类型相反的鳍片区域(107);与衬底掺杂类型相同的鳍片区域(108);与阱区掺杂类型相反的鳍片区域(105)、与阱区掺杂类型相同的鳍片区域(106)、与衬底掺杂类型相反的鳍片区域(107)、与衬底掺杂类型相同的鳍片区域(108)组成鳍片;半导体衬底(102)、位于半导体衬底内的阱区(103)、与阱区掺杂类型相反的鳍片区域(105)、与阱区掺杂类型相同的鳍片区域(106)、与衬底掺杂类型相反的鳍片区域(107)、与衬底掺杂类型相同的鳍片区域(108)一起构成了SCR结构,用于泄放ESD电荷;与阱区掺杂类型相同的鳍片区域(106)、位于半导体衬底内的阱区(103)、触发调制(101)、半导体衬底(102)、与衬底掺杂类型相同的鳍片区域(108)形成了寄生二极管结构,通过调节触发调制(101)的结构和形态调节触发电压。
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