[发明专利]可调制触发电压的ESD保护装置及其制备方法有效
申请号: | 201910260093.4 | 申请日: | 2019-04-02 |
公开(公告)号: | CN109935584B | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
发明(设计)人: | 姜一波;毕卉;徐志豪;江情男;施程 | 申请(专利权)人: | 常州工学院 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L21/82 |
代理公司: | 常州西创专利代理事务所(普通合伙) 32472 | 代理人: | 张磊 |
地址: | 213032 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种可调制触发电压的ESD保护装置及其制备方法,在装置内形成一个或者多个隧穿二极管。在寄生结构上以齐纳二极管替代雪崩二极管,在击穿原理上以隧穿击穿替代雪崩击穿,从而改变寄生SCR的电学击穿点,有效地降低触发电压,并根据结构的变化对触发电压进行调制。同时,公开了一种可调制触发电压的ESD保护装置制备方法,用以制备该可调制触发电压的ESD保护装置。调制触发电压形成的可调制触发电压的ESD保护装置,能够满足FinFET工艺下ESD保护窗口要求,确保触发电压低于被保护单元的损伤电压。 | ||
搜索关键词: | 调制 触发 电压 esd 保护装置 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.可调制触发电压的ESD保护装置,其特征在于,包括:触发调制(101);半导体衬底(102);位于半导体衬底内的阱区(103);鳍片之间的隔离结构(104);与阱区掺杂类型相反的鳍片区域(105);与阱区掺杂类型相同的鳍片区域(106);与衬底掺杂类型相反的鳍片区域(107);与衬底掺杂类型相同的鳍片区域(108);与阱区掺杂类型相反的鳍片区域(105)、与阱区掺杂类型相同的鳍片区域(106)、与衬底掺杂类型相反的鳍片区域(107)、与衬底掺杂类型相同的鳍片区域(108)组成鳍片;半导体衬底(102)、位于半导体衬底内的阱区(103)、与阱区掺杂类型相反的鳍片区域(105)、与阱区掺杂类型相同的鳍片区域(106)、与衬底掺杂类型相反的鳍片区域(107)、与衬底掺杂类型相同的鳍片区域(108)一起构成了SCR结构,用于泄放ESD电荷;与阱区掺杂类型相同的鳍片区域(106)、位于半导体衬底内的阱区(103)、触发调制(101)、半导体衬底(102)、与衬底掺杂类型相同的鳍片区域(108)形成了寄生二极管结构,通过调节触发调制(101)的结构和形态调节触发电压。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的