[发明专利]一种近红外二区方酸喹啉染料及其制备方法在审
| 申请号： | 201910242205.3 | 申请日： | 2019-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN110003103A | 公开（公告）日： | 2019-07-12 |
| 发明（设计）人： | 王琦;弓瑾;吴铭敏;朱晓霞;顾心亮;张颖 | 申请（专利权）人： | 南通大学;南京市江宁医院 |
| 主分类号： | C07D215/18 | 分类号： | C07D215/18;C09B23/10;C09K11/06 |
| 代理公司： | 北京惠智天成知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11681 | 代理人： | 刘莹莹 |
| 地址： | 226019*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种近红外二区方酸喹啉染料及其制备方法，属于有机染料合成领域，制备得到的方酸喹啉染料具有对称的化学结构，外观呈棕色至黑色固体，熔点在200‑400℃范围内。其中的R烷基为C1‑C8烷基链，改变其中的R烷基链长度不会影响荧光波长，且可以满足不同的使用要求，使该类染料应用更为广泛。本发明制备得到的近红外二区方酸喹啉染料，其荧光发射波长达到900‑1100nm，摩尔消光系数高，光稳定性良好，能有效避免生物背景荧光干扰；且荧光量子产率高，合成步骤短等优点，对环境、生物组织均具有优良的穿透性，为生物分子标记，太阳能电池，荧光成像等领域提供了良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 喹啉染料 方酸 制备 熔点 烷基 摩尔消光系数 生物分子标记 荧光发射波长 荧光量子产率 太阳能电池 烷基链长度 背景荧光 光稳定性 合成步骤 合成领域 黑色固体 染料应用 生物组织 荧光成像 影响荧光 有机染料 穿透性 烷基链 波长 对称 应用 | ||
【主权项】：
1.一种近红外二区方酸喹啉染料，其分子结构通式如下：![]()
其中，R＝(CH2)nCH3，n＝0‑7整数；X＝Br,I。
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