[发明专利]一种光栅器件及其制造方法、显示装置有效
| 申请号： | 201910204650.0 | 申请日： | 2019-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN109917503B | 公开（公告）日： | 2021-04-23 |
| 发明（设计）人： | 王美丽;徐婉娴;王飞;梁轩;王慧娟;谭纪风;孟宪东 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人： | 张筱宁 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种光栅器件的制造方法，包括：在衬底基板上制作光栅材料层；通过构图工艺在光栅材料层上制作牺牲层，牺牲层制作在非取光区内，用于在后续刻蚀过程中保护该牺牲层下方的光栅材料层；对制作有光栅材料层和牺牲层的衬底基板进行纳米压印和刻蚀处理，使得在取光区内形成光栅结构。本发明实施例还公开了一种光栅器件和显示装置。由于本发明实施例的光栅器件仅在取光区内的衬底基板上设置光栅结构，而在非取光区内没有留有光栅结构，避免了光栅器件在进行取光时，影响取光角度变大且峰值变宽的技术缺陷，增强显示装置的整体显示效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光栅 器件 及其 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种光栅器件的制造方法，其特征在于，包括：在衬底基板上制作光栅材料层；通过构图工艺在所述光栅材料层上制作牺牲层，所述牺牲层制作在非取光区内，用于在后续刻蚀过程中保护该牺牲层下方的光栅材料层；对制作有所述光栅材料层和所述牺牲层的所述衬底基板进行纳米压印和刻蚀处理，使得在取光区内形成光栅结构。
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