[发明专利]一种隧道式无舟皿连续微波加热设备、加热方法有效
| 申请号： | 201910188683.0 | 申请日： | 2019-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN111698807B | 公开（公告）日： | 2022-07-05 |
| 发明（设计）人： | 言伟雄 | 申请（专利权）人： | 株洲弗拉德科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/511 | 分类号： | C23C16/511;H05B6/64;H05B6/78;H05B6/74 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 杨千寻;冯振宁 |
| 地址： | 412000 湖南省株洲*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明提供一种隧道式无舟皿连续微波加热设备、加热方法；所述隧道式无舟皿连续微波加热设备设有运动模块与固定模块；其中固定模块设有带预热段、加热段、冷却段的工作平台，用于加工物料；运动模块内设有可进行升降的犁刀、刮料板，外部设有水平驱动装置，可沿导轨进行往复运动，具有搅拌物料和输送物料双功能；两个模块配合工作并形成一条包括进料、加热、冷却、出料的不间歇的工作路线，数个工序可同时进行，实现了连续生产，简化生产步骤，提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 隧道 舟皿 连续 微波 加热 设备 方法 | ||
【主权项】：
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- 一种微波下馈式MPCVD系统的托盘升降结构，涉及高真空机械结构技术领域，解决下馈式MPCVD腔体环境中现有的机械结构难以在腔体内升降的技术问题，包括钼托盘和紫铜托盘，所述钼托盘底部固设有支撑管，所述支撑管贯穿所述紫铜托盘的中心后向下延伸，所述支撑管的下部安装有升降机构，所述支撑管上位于所述升降机构的上方套设有波纹管，所述波纹管与所述支撑管之间真空密封设置，所述支撑管内部贯穿设置有通水管。本实用新型满足水冷水密性、高真空气密性要求的情况下，能上下升降，有效改善MPCVD反应过程中腔体内部钼托盘上的温度场及流场分布，并且避免了由于金刚石沉积高度增加影响等离子体形状的问题，极大提高了金刚石的生长效率。
- 一种金刚石生长用多模腔结构、MPCVD装置-202320168995.7
- 杨成武 - 天津征惟半导体科技有限公司
- 2023-02-09 - 2023-06-30 - C23C16/511
- 本实用新型提供一种金刚石生长用多模腔结构及设有该多模腔的MPCVD装置，包括腔体单元，其包括分体式结构的上腔体和下腔体，所述上腔体和所述下腔体内设有用于生长金刚石的容腔，在所述容腔中配设有内石英环和外石英环，所述内石英环抵顶水冷台和所述下腔体；所述外石英环将所述容腔分割成内模腔和外模腔；反应气体从所述上腔体中进入所述容腔中经微波激发电离产生等离子体，再经所述外石英环和所述内石英环之间的所述内模腔中流出。本实用新型一种金刚石生长用多模腔结构，结构简单、设计合理和操作方便，不仅提高了微波使用功率、等离子体沉积面积和等离子体离解率，还大幅提高了金刚石的生长速率和质量。
- 一种水冷腔体及设有该腔体的设备-202320168999.5
- 杨成武 - 天津征惟半导体科技有限公司
- 2023-02-09 - 2023-06-30 - C23C16/511
- 本实用新型提供一种水冷腔体即设有该腔体的设备，包括本体，在所述本体上设有若干组直接被冷却液流经的水槽，至少有一组水槽被构置在所述本体大径段的平面上，且构置在所述本体大径段的平面上的所述水槽被构造为螺旋形结构。本实用新型直接在腔体上采用水槽流通冷却液，使冷却液不需要通过其他介质直接冷却腔体，保证腔体冷却温度的均匀性，提高腔体水冷效果，从而可提高等离子体的功率，以提高基片生长的功率密度，从而提高基片的生长速度。
- 一种用于PCVD的谐振腔-202223572281.7
- 吴平;李喆 - 长飞光纤光缆（天津）有限公司
- 2022-12-28 - 2023-06-30 - C23C16/511
- 本实用新型提供了一种用于PCVD的谐振腔，包括波导管、盖板，盖板可拆卸连接于波导管的一端，盖板上开有光滑的曲面凹槽，曲面凹槽反射电磁波形成了聚焦电磁波的聚焦位。本实用新型有益效果：本装置通过利用电磁波传输、反射的特性，以及曲面凹槽对电磁波聚焦的特性，实现将微波能量聚焦于穿过该谐振腔的石英衬管内，被石英衬管内的气体介质更充分吸收，使气体介质转变成等离子态快速进行化学反应，相对于现有技术，本装置对微波的利用率更高。
- 一种覆膜用真空微波沉积室-202310350952.5
- 王俊 - 娄底职业技术学院
- 2023-04-04 - 2023-06-27 - C23C16/511
- 本发明提供一种覆膜用真空微波沉积室，涉及覆膜技术领域，包括沉积室本体，所述沉积室本体的内部上端安装有总管，所述沉积室本体的后侧安装有真空泵，且真空泵与沉积室本体之间相连接，所述沉积室本体的内部两侧分别安装有微波加热器，所述沉积室本体的内部安装有调整机构。本发明中使用者将鞋子通过夹持板放置在固定块的表面，然后通过第一电机让放置板带动原料进行旋转工作，增加等离子与鞋子的接触面积，并且在通过第二电机与正反丝杆的配合，将长顶杆与短顶杆移动至圆形槽的内部，通过长顶杆对放置板的推动，使得放置板形成倾斜状态，从而让等离子可以直接吸附至鞋子的鞋跟处，大大提高了整体的加工效率，更加的简单便捷。
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
