[发明专利]决定方法、曝光方法、装置、物品的制造方法及存储介质有效
| 申请号： | 201910161927.6 | 申请日： | 2019-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN110244518B | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 籔伸彦 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 孙蕾 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及决定方法、曝光方法、装置、物品的制造方法及存储介质。提供决定方法，决定将掩模图案投影到基板的投影光学系统的最佳聚焦位置，具有：第1工序，取得表示经投影光学系统分别在投影光学系统的像面侧的光轴方向的多个位置转印的第1测量图案的测量结果与多个位置的关系的函数；第2工序，求出为函数和第1水平交叉的2个点中点的第1聚焦位置；第3工序，求出为函数和与第1水平不同的第2水平交叉的2个点中点的第2聚焦位置；第4工序，求出为函数和第1与第2水平之间的第3水平交叉的2个点中点的第3聚焦位置；第5工序，根据第3聚焦位置、第1与第3聚焦位置的第1差分、及第2与第3聚焦位置的第2差分决定最佳聚焦位置。 | ||
| 搜索关键词： | 决定 方法 曝光 装置 物品 制造 存储 介质 | ||
【主权项】：
1.一种决定方法，决定将掩模的图案投影到基板的投影光学系统的最佳聚焦位置，其特征在于，具有：第1工序，取得表示经由所述投影光学系统分别在所述投影光学系统的像面侧的光轴方向的多个位置处被转印的第1测量图案的测量结果、与所述多个位置的各个位置的关系的函数；第2工序，求出成为所述函数和第1水平交叉的2个点的中点的第1聚焦位置；第3工序，求出成为所述函数和与所述第1水平不同的第2水平交叉的2个点的中点的第2聚焦位置；第4工序，求出成为所述函数和所述第1水平与所述第2水平之间的第3水平交叉的2个点的中点的第3聚焦位置；以及第5工序，根据所述第3聚焦位置、所述第1聚焦位置与所述第3聚焦位置的第1差分、及所述第2聚焦位置与所述第3聚焦位置的第2差分，决定所述最佳聚焦位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社，未经佳能株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910161927.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
