[发明专利]X射线荧光分析仪和用于执行X射线荧光分析的方法在审

专利信息
申请号: 201880094877.8 申请日: 2018-04-20
公开(公告)号: CN112292593A 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: T·科斯基宁;A·佩里;H·西皮拉 申请(专利权)人: 奥图泰(芬兰)公司
主分类号: G01N23/223 分类号: G01N23/223;B03B13/06;G21K1/06;C22B3/02;G01T1/16
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 聂慧荃;郑特强
地址: 芬兰*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种X射线荧光分析仪,其包括用于沿第一光轴(204)的方向发射入射X射线(206)的X射线管(402)。浆料处理单元(201)被配置成维持浆料样品(202)与所述X射线管之间的恒定距离。第一晶体衍射仪(601)相对于所述浆料处理单元(201)沿第一方向定位,并且被配置成从传播到所述第一方向上的荧光X射线(207)中分离预定第一波长范围。第一晶体衍射仪被配置成将处于所分离的预定第一波长范围内的荧光X射线导向至第一辐射检测器(602、1505)。第一晶体衍射仪(601)包括具有衍射表面(801、803、805)的热解石墨晶体(603、802、804),所述衍射表面是单连通表面。所述第一辐射检测器(602)是固态半导体检测器。
搜索关键词: 射线 荧光 分析 用于 执行 方法
【主权项】:
暂无信息
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