[发明专利]薄膜沉积用前体溶液以及利用该前体溶液的薄膜形成方法在审
| 申请号： | 201880074115.1 | 申请日： | 2018-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN111527237A | 公开（公告）日： | 2020-08-11 |
| 发明（设计）人： | 朴容主;吴瀚率;黃仁天;金相镐;洪畅成;李相京 | 申请（专利权）人： | 思科特利肯株式会社 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/34;C23C16/448;C23C16/08 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 刘灿强;姜长星 |
| 地址： | 韩国世宗*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及薄膜沉积用前体溶液，由选自能够在室温(room temperature)溶解金属卤化物的液相烯烃(alkene)或者液相炔烃(alkyne)的功能性溶剂以及溶于所述功能性溶剂而在室温下以液相存在的金属卤化物构成，从而在解决由于沉积工艺中在腔室内产生的卤素气体导致的问题的同时显示出能够提高薄膜的膜厚度均一性的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 沉积 用前体 溶液 以及 利用 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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