[发明专利]化合物、图案形成用基板、光分解性偶联剂、图案形成方法和晶体管的制造方法有效
| 申请号： | 201880065020.3 | 申请日： | 2018-10-03 |
| 公开（公告）号： | CN111183143B | 公开（公告）日： | 2023-04-04 |
| 发明（设计）人： | 川上雄介;山口和夫;伊藤伦子 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康;学校法人神奈川大学 |
| 主分类号： | C07F7/18 | 分类号： | C07F7/18;C23C18/18;C23C18/20;C23C18/28;C23C18/31;G03F7/075;G03F7/20;G03F7/40;H05K3/18 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 于洁;褚瑶杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种化合物，其由下述通式(1)所表示。[式中，X表示卤原子或烷氧基，R |
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| 搜索关键词： | 化合物 图案 形成 用基板 分解 性偶联剂 方法 晶体管 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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