[发明专利]透明光学膜的制造方法及透明多层膜的制造方法有效
| 申请号： | 201880018079.7 | 申请日： | 2018-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN110418855B | 公开（公告）日： | 2020-12-11 |
| 发明（设计）人： | 中村诚吾;梅田贤一;板井雄一郎;园田慎一郎 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C23C14/58;G02B1/116;B32B9/00;B32B9/04;B32B15/04;B32B15/20;B32B33/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 薛海蛟 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种有效地制造包含透明且为极薄膜的银合金层的透明光学膜的透明光学膜的制造方法及使用了透明光学膜的制造方法的透明多层膜的制造方法。具有以下工序：成膜工序，包含将厚度为6nm以下的银层通过真空蒸镀进行成膜的银蒸镀工序、及将由标准电极电位大于银的高标准电极电位金属构成的高标准电极电位金属层通过真空蒸镀进行成膜的高标准电极电位金属蒸镀工序，并且在基材上至少将银层和高标准电极电位金属层进行层叠成膜；以及合金化工序，通过在50℃以上且400℃以下的温度下进行加热处理，在银层中使高标准电极电位金属扩散来形成银合金层。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 光学 制造 方法 多层 | ||
【主权项】：
1.一种透明光学膜的制造方法，其具有以下工序：成膜工序，包含将厚度为6nm以下的银层通过真空蒸镀进行成膜的银蒸镀工序、及将由作为标准电极电位大于银的金属的高标准电极电位金属构成的层即高标准电极电位金属层通过真空蒸镀进行成膜的高标准电极电位金属蒸镀工序，并且在基材上至少将所述银层和所述高标准电极电位金属层进行层叠成膜；以及合金化工序，通过在50℃以上且400℃以下的温度下实施加热处理，在所述银层中使所述高标准电极电位金属扩散来形成银合金层，所述透明光学膜的制造方法制造包含该银合金层的透明光学膜。
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