[实用新型]欧姆接触性能优化的光子晶体LED芯片有效

专利信息
申请号: 201821612046.9 申请日: 2018-09-29
公开(公告)号: CN209282228U 公开(公告)日: 2019-08-20
发明(设计)人: 黄华茂;黄程;吴浩城;王洪 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/38;H01L33/00
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 何淑珍;江裕强
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种欧姆接触性能优化的光子晶体LED芯片。光子晶体LED芯片包括发光单元呈圆台结构,圆台上分布有光子晶体;正电极分布在表面平坦化的圆台结构的电流扩展层上,电流扩展层包含欧姆接触层和电流横向扩散层双层结构;负电极分布在N型掺杂GaN材料上,负电极与N型掺杂GaN材料的分界面上分布有光子晶体。本实用新型在没有图案的平坦的外延片表面沉积透明电流扩展层,并退火形成欧姆接触;本实用新型有源区域的光子晶体提高了发光效率和调制带宽,负电极与N型掺杂GaN材料分界面上的接触面光子晶体以及双层结构的电流扩展层优化了欧姆接触性能。
搜索关键词: 光子晶体 欧姆接触 本实用新型 电流扩展层 负电极 双层结构 性能优化 圆台结构 分界 透明电流扩展层 退火 表面平坦化 欧姆接触层 外延片表面 电流横向 调制带宽 发光单元 发光效率 扩散层 源区域 正电极 沉积 平坦 图案 优化
【主权项】:
1.一种欧姆接触性能优化的光子晶体LED芯片,其特征在于:主体为发光单元,包括金属反射电极、透明电流扩展层、P型掺杂GaN层、P型掺杂AlGaN层、量子阱层、N型掺杂GaN层、非故意掺杂GaN层、GaN缓冲层和蓝宝石衬底,所述金属反射电极包括正电极和负电极,所述蓝宝石衬底与GaN缓冲层接触连接,所述GaN缓冲层与非故意掺杂GaN层接触连接,所述非故意掺杂GaN层与N型掺杂GaN层接触连接,所述N型掺杂GaN层与量子阱层接触连接,所述量子阱层与P型掺杂AlGaN层接触连接,所述P型掺杂AlGaN层与P型掺杂GaN层接触连接,所述P型掺杂GaN层与透明电流扩展层接触连接,所述透明电流扩展层与正电极接触连接,所述N型掺杂GaN层还与负电极接触连接。
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