[实用新型]一种磁控溅射装置和磁控溅射设备

摘要

本实用新型公开一种磁控溅射装置，包括真空室、自转电机、中齿轮、减速箱、公转电机、靶基距调控箱和磁控溅射靶，自转电机输出端进入真空室内与中齿轮啮合的小齿轮连接，中齿轮上固定安装一个齿轮组，齿轮组两边啮合连接自转齿轮，自转齿轮上安装自转轴，自转轴头端安装工件架；公转电机输出端与安装在真空室外顶部中间的减速箱连接，减速箱与公转轴连接，真空室底部安装有抽气孔、磁控溅射靶、充气孔及加热器，磁控溅射靶上安装靶基距调控箱。可实现工件的自转与公转，且靶基距、偏心距及转速比均可调节，装置整体结构简单、设计合理新颖、功能全面，为小靶材大基片多工位磁控溅射镀膜膜厚均匀性的研究与分析奠定基础。

主权项

1.一种磁控溅射装置，包括真空室、自转电机、中齿轮、减速箱、公转电机、靶基距调控箱和磁控溅射靶，其特征在于：真空室外顶部的左右侧分别垂直安装自转电机和公转电机；所述自转电机输出端进入真空室内与中齿轮啮合的小齿轮连接，中齿轮上固定安装一个齿轮组，齿轮组通过轴承与真空室内的公转轴上套的套筒连接，齿轮组两边啮合连接自转齿轮，自转齿轮上安装自转轴，自转轴头端安装工件架；所述公转电机输出端与安装在真空室外顶部中间的减速箱连接，减速箱与公转轴连接，公转轴下端安装偏心距调动块，末端安装公转盘，减速箱上端安装偏心距调动箱，偏心距调动箱连接公转轴上的套筒，公转盘上设计4个滑槽滑块机构，滑块上安装轴承与偏心距调动块上安装的触手固定，公转盘径向的滑块外侧开设螺纹孔并装有弹簧，螺纹孔通过螺栓封孔并顶住弹簧的一侧；公转盘上均布有4个圆形孔用于固定自转轴，真空室底部安装有抽气孔、磁控溅射靶、充气孔及加热器，磁控溅射靶上安装靶基距调控箱。