[实用新型]进出片室和真空镀膜设备有效
申请号: | 201821170181.2 | 申请日: | 2018-07-23 |
公开(公告)号: | CN208883973U | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 樊文凤;张阳 | 申请(专利权)人: | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/22 | 分类号: | C23C14/22;C23C14/56 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
地址: | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供一种进出片室和真空镀膜设备,用于对基片进行真空镀膜,所述进出片室包括壳体,所述进出片室还包括至少一个密封的不锈钢盒体,所述不锈钢盒体设置于所述壳体内,所述不锈钢盒体用于填充所述壳体内的空间。本实用新型通过在进出片室内设置密封的不锈钢盒体作为腔室填充件填充进出片室内的空间,能够减少将进出片室内的气体体积,从而减少抽真空过程的抽气量以及破真空过程的进气量,能够提高生产效率。 | ||
搜索关键词: | 不锈钢盒体 进出片室 真空镀膜设备 本实用新型 室内 填充 密封 体内 生产效率 真空镀膜 抽气量 抽真空 进气量 破真空 填充件 壳体 腔室 | ||
【主权项】:
1.一种进出片室,用于对基片进行真空镀膜,所述进出片室包括壳体,其特征在于,所述进出片室还包括至少一个密封的不锈钢盒体,所述不锈钢盒体设置于所述壳体内,所述不锈钢盒体用于填充所述壳体内的空间。
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