[实用新型]真空镀膜装置

摘要

本实用新型公开了一种真空镀膜装置，包括第一腔体和第二腔体。第一腔体中设置有镀膜系统，第二腔体上设置有卷绕系统。镀膜系统包括离子源和靶体。卷绕系统包括第一收放卷、第二收放卷、镀膜辊和导向辊，镀膜辊包括第一镀膜辊和第二镀膜辊，导向辊用于将第一收放卷上的待镀材料引导卷绕到第一镀膜辊和第二镀膜辊上并进一步引导至第二收放卷上或将所述第二收放卷上的待镀材料通过所述第二镀膜辊和所述第一镀膜辊引导至所述第一收放卷上。第一镀膜辊和第二镀膜辊开设有液体通道，液体通道贯穿第一镀膜辊和第二镀膜辊。本实用新型实施方式的真空镀膜装置可以为一些不耐高温的材料进行镀膜操作，提高了真空镀膜装置的经济效益。

主权项

1.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括第一腔体和第二腔体，所述第二腔体可移动地设置在所述第一腔体中并配合形成密闭空间，所述第一腔体中设置有镀膜系统，所述第二腔体上设置有卷绕系统，所述镀膜系统包括离子源和靶体并设置在所述第一腔体的内壁上，所述卷绕系统包括第一收放卷、第二收放卷、镀膜辊和导向辊，所述镀膜辊包括第一镀膜辊和第二镀膜辊，所述导向辊用于将所述第一收放卷上的待镀材料引导卷绕到所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊上并进一步引导至所述第二收放卷上或将所述第二收放卷上的待镀材料通过所述第二镀膜辊和所述第一镀膜辊引导至所述第一收放卷上，所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊开设有液体通道，所述液体通道贯穿所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊。