[发明专利]刻蚀后硅片边缘电阻的测试方法及装置在审
申请号: | 201811536491.6 | 申请日: | 2018-12-14 |
公开(公告)号: | CN109655667A | 公开(公告)日: | 2019-04-19 |
发明(设计)人: | 高凤海;费正洪;李栋 | 申请(专利权)人: | 盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司 |
主分类号: | G01R27/02 | 分类号: | G01R27/02;G01R31/26 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 224431 江苏省盐*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明实施例提供的一种刻蚀后硅片边缘电阻的测试方法及装置,该方法通过在刻蚀后硅片的前表面的测试点输入预设电信号,并在背离前表面的背表面的测试点获取输出的电信号,以根据预设电信号和输出的电信号,计算出刻蚀后硅片的边缘电阻。本发明实施例提供的一种刻蚀后硅片边缘电阻的测试方法及装置,能够对所有刻蚀后的硅片进行测试,提高测试效率和测试数据的准确度,进而提高生产效率和产品良率。 | ||
搜索关键词: | 刻蚀 测试方法及装置 硅片边缘 硅片 电阻 测试点 前表面 预设 边缘电阻 测试数据 测试效率 产品良率 生产效率 准确度 输出 背表面 背离 测试 | ||
【主权项】:
1.一种刻蚀后硅片边缘电阻的测试方法,其特征在于,包括:硅片经刻蚀工艺后,在刻蚀后硅片的前表面的测试点输入预设电信号;获取背离所述前表面的背表面的测试点输出的电信号;根据所述预设电信号和所述输出的电信号,计算所述刻蚀后硅片的边缘电阻的测试阻值。
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