[发明专利]图案描绘方法、光掩模及其制造方法、显示装置的制造方法

摘要

本发明涉及图案描绘方法、光掩模的制造方法、光掩模、以及显示装置的制造方法。降低图案CD的变动，得到稳定的成品率。图案描绘方法包括：校正工序，依据预先求出的校正值来校正设计图案数据，从而得到校正图案数据，该校正值以使通过对光掩模进行曝光而在被转印体上得到的孔/点图案的CD与目标值相等的方式求出；以及描绘工序，应用校正图案数据，利用描绘装置来进行描绘。描绘装置在与光掩模基板面平行的面内，在X方向和与X方向垂直的Y方向上通过CD控制精度不同的驱动方式被驱动。在校正工序中，通过在设计图案数据中对孔/点图案的CD进行如下校正而得到校正图案数据，在该校正中，使在X方向和Y方向中的CD控制精度较高的方向上的CD变更。

主权项

1.一种图案描绘方法，其用于根据规定的设计图案数据而在光掩模基板上进行描绘，来形成具有包括孔/点图案的转印用图案的光掩模，该图案描绘方法的特征在于，包括：校正工序，依据预先求出的校正值来校正所述设计图案数据，从而得到校正图案数据，使得通过对所述光掩模进行曝光而在被转印体上得到的孔/点图案的CD与目标值相等；以及描绘工序，应用所述校正图案数据，利用描绘装置进行描绘，所述描绘装置在与所述光掩模基板面平行的面内，通过CD控制精度在X方向和与所述X方向垂直的Y方向上不同的驱动方式被驱动，在所述校正工序中，通过在设计图案数据中对所述孔/点图案的CD进行如下校正，来得到校正图案数据，在该校正中，使X方向和Y方向中的CD控制精度较高的方向上的CD变更。