[发明专利]陶瓷激光直接成形沉积质量的PID控制方法在审
申请号: | 201811494558.4 | 申请日: | 2018-12-07 |
公开(公告)号: | CN109435016A | 公开(公告)日: | 2019-03-08 |
发明(设计)人: | 张屹;李发智;张新旺;隋长有;韦海英 | 申请(专利权)人: | 湖南大学 |
主分类号: | B28B1/54 | 分类号: | B28B1/54;B28B17/00 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人: | 马强;王娟 |
地址: | 410082 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种陶瓷激光直接成形沉积质量的PID控制方法,1)、在陶瓷直接成形过程中控制熔池的大小,改变成形件沉积层的沉积高度;2)、通过控制沉积层的沉积高度,实现了不同区域、不同位置处的成形高度均一化。本发明解决了在陶瓷复杂成形过程中,不同位置处的零件沉积高度不稳定问题,实现了激光直接成形陶瓷复杂零件成形。 | ||
搜索关键词: | 沉积 直接成形 陶瓷 激光 沉积层 位置处 成形 复杂成形 复杂零件 稳定问题 成形件 均一化 熔池 | ||
【主权项】:
1.一种陶瓷激光直接成形沉积质量的PID控制方法,其特征在于,包括以下步骤:1)测量熔池温度;2)对熔池温度进行温度判定,将反馈结果传送至激光器;3)激光器根据温度反馈结果进行激光功率的改变,从而得到稳定的成形高度。
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