[发明专利]两面曝光装置及两面曝光方法

摘要

本发明的目的是在经由基板的校准用开口将掩模的校准标记用照相机摄影时，解决掩模的校准标记的遮挡的问题。通过曝光单元(2)经由配置在夹着被输送系统(1)间歇性地进给的基板(W)的位置的一对第一第二掩模(3、4)将光向基板(W)照射而曝光。在曝光之前，根据来自对第一掩模(3)的校准标记(31)、第二掩模(4)的校准标记(41)及基板(W)的校准用开口(Wm)进行摄影的照相机(8)的摄影数据，校准机构进行校准。在没有经由校准用开口(Wm)拍摄到掩模标记(31、41)而被遮挡的情况下，将前次曝光时的校准完成时的掩模标记(31、41)的位置从存储部(60)读出，以该位置为基准计算用来将遮挡消除的移动量，使掩模(3、4)移动而将遮挡消除。

主权项

1.一种两面曝光装置，其特征在于，具备：输送系统，将沿着长度方向隔开间隔设定有多个目标曝光区域、并且被卷成卷的柔性的基板拉出并间歇性地进给；一对第一第二掩模，配置在夹着被进给的基板的目标曝光区域；曝光单元，在输送系统使基板停止而校准后，经由各掩模向基板的两面的目标曝光区域照射光而进行曝光；以及存储部；基板具有相对于应曝光的区域以规定的位置关系设置的校准用开口；第一掩模具有作为校准用的标记的第一掩模标记；第二掩模具有作为校准用的标记的第二掩模标记；设置有能够对第一掩模标记、第二掩模标记及基板的校准用开口进行摄影的照相机；设置有根据来自摄影了第一掩模标记、第二掩模标记及校准用开口的照相机的摄影数据、将第一第二掩模相对于基板的应曝光区域进行对位的校准机构；具备将由校准机构进行的对位完成时的第一掩模标记的位置及/或第二掩模标记的位置作为以前标记位置向存储部存储的存储机构、和临时校准机构；临时校准机构是以下这样的机构：在校准机构进行对位时，在第一掩模标记或第二掩模标记没有经由基板的校准用开口被捕捉到而被基板遮挡的情况下，从存储部取得前次曝光时的校准的完成时的以前标记位置，以该位置为基准计算用来使遮挡消除的基板或第一第二掩模的移动的朝向和距离，使基板或第一第二掩模向该朝向进行该距离的移动。