[发明专利]有图形晶圆及掩模版的缺陷检测方法及装置有效
申请号: | 201811259816.0 | 申请日: | 2018-10-26 |
公开(公告)号: | CN109596638B | 公开(公告)日: | 2022-05-06 |
发明(设计)人: | 刘立拓;周维虎;陈小梅;李冠楠;纪荣祎;石俊凯 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电研究院 |
主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王莹;吴欢燕 |
地址: | 100094*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明实施例提供一种有图形晶圆及掩模版的缺陷检测方法及装置,该方法包括:获取待检测的器件的图像数据,器件包括有图形晶圆或掩模版,图像数据用于反映器件的光照区域的电磁场分布情况;将图像数据输入至与器件对应的缺陷检测模型,输出与器件对应的缺陷检测结果;缺陷检测模型是基于样本图像数据以及预先确定的与样本图像数据对应的样本缺陷类型进行训练后获得的。本发明实施例由于通过图像数据的方式检测有图形晶圆和掩模版的缺陷,相比于探测电磁扰动来检测有图形晶圆和掩模版的缺陷的方式,较少的实验样本来实现仿真数据的逼近,且利用网络模型处理多维非线性问题的能力,能够显著提高缺陷检测的灵敏度。 | ||
搜索关键词: | 图形 模版 缺陷 检测 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种有图形晶圆及掩模版的缺陷检测方法,其特征在于,包括:获取待检测的器件的图像数据,所述器件包括有图形晶圆或掩模版,所述图像数据用于反映所述器件的光照区域的电磁场分布情况;将所述图像数据输入至与所述器件对应的缺陷检测模型,输出与所述器件对应的缺陷检测结果;所述缺陷检测模型是基于样本图像数据以及预先确定的与所述样本图像数据对应的样本缺陷类型进行训练后获得的。
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