[发明专利]等离子处理装置

摘要

本发明提供一种等离子处理装置，构成为对具有导电性的平板状的工件进行等离子处理，具备：导电性的真空容器，具有凹陷部和从凹陷部连续地设置在凹陷部的外侧的周缘部，该凹陷部构成为供平板状的工件的至少单侧的处理对象部分配置；保持构件，构成为以使所述工件相对于周缘部分离且绝缘的方式保持所述工件；电压施加部，构成为对工件与真空容器之间施加电压；及绝缘层，构成为覆盖周缘部中与工件对向的部位。

主权项

1.一种等离子处理装置，所述等离子处理装置构成为对具有导电性的平板状的工件进行等离子处理，所述等离子处理装置的特征在于，包括：导电性的真空容器，具有凹陷部和从所述凹陷部连续地设置在所述凹陷部的外侧的周缘部，所述凹陷部构成为供所述平板状的工件的至少单侧的处理对象部分配置；保持构件，构成为以使所述工件相对于所述周缘部分离且绝缘的方式保持所述工件；电压施加部，构成为对所述工件与所述真空容器之间施加电压；及绝缘层，构成为覆盖所述周缘部中与所述工件对向的部位。