[发明专利]涂敷处理装置和涂敷液捕集构件

摘要

一种涂敷处理装置和涂敷液捕集构件。提供如下技术：在使供给有高粘度的涂敷液的基板旋转而进行涂敷处理时，对涂敷处理中飞散的涂敷液进行捕集而去除，并且抑制生产率的降低。在使晶圆旋转而涂敷抗蚀剂液的抗蚀剂涂敷装置中，在沿着杯体的周向设置的排气路径设置有捕集由于晶圆的旋转而产生的线状的涂敷液的涂敷液捕集构件，在涂敷液捕集构件设置有溶剂积存部。因此，在对晶圆进行了背面侧溶剂供给处理时从晶圆甩开的溶剂落到涂敷液捕集构件，积存于溶剂积存部。并且，通过设为溶剂积存到溶剂积存部的状态，能够在对接下来的晶圆进行了抗蚀剂涂敷处理时也在抗蚀剂涂敷处理期间溶解去除被涂敷液捕集构件捕集的线状的涂敷液，能够抑制生产率的降低。

主权项

1.一种涂敷处理装置，其特征在于，该涂敷处理装置具备：基板保持部，其水平地保持基板并绕铅垂轴线旋转；涂敷液供给部，其向保持到所述基板保持部的基板供给高粘度的涂敷液；杯体，其以包围所述基板保持部上的基板的方式设置；环状的排气路径，其沿着所述杯体的周向形成于所述杯体的内周面与设置于所述杯体的内部的内侧构件之间；涂敷液捕集构件，其以覆盖所述排气路径的方式设置，具备从上方侧连通到下方侧的开口部，并且用于对从旋转的基板飞散的所述涂敷液进行捕集；溶剂积存部，其设置于所述涂敷液捕集构件，积存用于使被涂敷液捕集构件捕集到的所述涂敷液溶解的溶剂；以及溶剂供给部，其向所述溶剂积存部供给溶剂。