[发明专利]双面抛光机与抛光方法在审
| 申请号： | 201810996937.7 | 申请日： | 2018-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN110871385A | 公开（公告）日： | 2020-03-10 |
| 发明（设计）人： | 王乐军;李琳琳;宋士佳;彭东阳;刘桂勇;姜宏 | 申请（专利权）人： | 东泰高科装备科技（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B24B27/00 | 分类号： | B24B27/00;B24B29/02;B24B47/12;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 韩建伟;谢湘宁 |
| 地址： | 102209 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种双面抛光机与抛光方法。该双面抛光机包括机架、上抛光盘、下抛光盘、中心齿轮、外齿轮和驱动组件，上抛光盘、下抛光盘、中心齿轮、外齿轮分别独立地设置于机架上，中心齿轮设置于外齿轮的中心位置处，中心齿轮与外齿轮之间具有容纳空间，用于啮合放置晶片的游星轮，容纳空间位于上抛光盘与下抛光盘之间，驱动组件包括：第一驱动装置，设置于机架上并与上抛光盘连接，用于驱动上抛光盘转动；第二驱动装置，设置于机架上并与下抛光盘连接，用于驱动下抛光盘与上抛光盘同向转动；第三驱动装置，设置于机架上并与中心齿轮连接，用于驱动中心齿轮转动；第四驱动装置，设置于机架上并与外齿轮连接，用于驱动外齿轮转动。 | ||
| 搜索关键词： | 双面 抛光机 抛光 方法 | ||
【主权项】：
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