[发明专利]用于太阳电池制造的9腔体立式HWCVD-PVD一体化设备在审
申请号: | 201810941453.2 | 申请日: | 2018-08-17 |
公开(公告)号: | CN110835743A | 公开(公告)日: | 2020-02-25 |
发明(设计)人: | 黄海宾;黄振;周浪;彭德香;任栋樑;刘超 | 申请(专利权)人: | 中智(泰兴)电力科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/24 | 分类号: | C23C16/24;C23C16/54;C23C16/46;C23C14/56;C23C14/35;C23C14/08;H01L31/18 |
代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 张斌 |
地址: | 225400 江苏省泰州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于太阳电池制造的9腔体立式HWCVD‑PVD一体化设备,上料腔体、预加热腔体、本征非晶硅薄膜沉积HWCVD腔体、掺杂非晶硅薄膜沉积HWCVD腔体、过渡腔体、第一、二、三TCO薄膜沉积PVD腔体和下料腔体通过真空锁依次连接且头尾设置真空锁,一移动装置由前至后穿接各腔体和真空锁,上料腔体内设立式载板,立式载板设置于移动装置上呈在本一体化设备中由前至后可移动状态,第二TCO薄膜沉积PVD腔体内设溅射靶,上述各个腔体外接超纯气路、加热系、抽真空系统。能有效避免产品制备过程工序暴露于空气,提升晶体硅异质结太阳电池的性能,降低其生产成本。 | ||
搜索关键词: | 用于 太阳电池 制造 立式 hwcvd pvd 一体化 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的