[发明专利]一种可调整光源的光化学加工平台及其加工方法有效
| 申请号： | 201810829046.2 | 申请日： | 2018-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN108857841B | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | 曾晰;郗枫飞;郑倩倩;何兴 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B41/00;B24B41/02;B24B41/04;B24B41/06;B24B51/00;B24B57/02 |
| 代理公司： | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人： | 王兵;黄美娟 |
| 地址： | 310014 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种可调整光源的光化学加工平台及其加工平台，包括：抛光装置，包括柔性抛光装置和夹持装置，柔性抛光装置安装在夹持装置的活动端，用于加工工件；抛光工作台，用于夹紧工件并浸泡工件；可调整光源装置，用于调整光源位置，使其对准抛光工作台上的工件并对工件进行照射；抛光液补加装置，设置于抛光工作台旁，并且其加液口位于抛光工作台的抛光池正上方，用于向抛光工作台中添加抛光液；以及控制柜，与抛光装置、抛光工作台、可调整光源装置以及抛光液补加装置电连接或信号连接。本发明的有益效果是：对工件照射位置、照射强度、照射角度适应性调整，提高光化学的效果，提高光化学加工的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 可调整 光源 光化学 加工 平台 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种可调整光源的光化学加工平台，其特征在于，包括：抛光装置，包括柔性抛光装置和夹持装置，柔性抛光装置安装在夹持装置的活动端，用于加工工件；抛光工作台，用于夹紧工件并浸泡工件；可调整光源装置，用于调整光源位置，使其对准抛光工作台上的工件并对工件进行照射；抛光液补加装置，设置于抛光工作台旁，并且其加液口位于抛光工作台的抛光池正上方，用于向抛光工作台中添加抛光液；以及控制柜，与抛光装置、抛光工作台、可调整光源装置以及抛光液补加装置电连接或信号连接，用于控制抛光装置、抛光工作台、可调整光源装置以及抛光液补加装置工作以对工件进行加工。
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