[发明专利]带阻滤波器结构及其形成和操作方法有效
| 申请号： | 201810582906.7 | 申请日： | 2018-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN109585424B | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 蔡铭宪 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/64 | 分类号： | H01L23/64;H01L27/06 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明的实施例提供了带阻滤波器结构及其形成和操作方法。一种滤波器结构包括接地平面，其中，接地平面位于集成电路(IC)封装件的第一金属层中。该滤波器结构还包括位于IC封装件的第二金属层中的平板。该滤波器结构还包括位于接地平面与平板之间的介电层，其中，接地平面、介电层和平板由此被配置为电容器件。该滤波器结构还包括位于IC封装件的第三金属层中的电感器件，其中，电感器件电连接至平板。 | ||
| 搜索关键词： | 带阻滤波器 结构 及其 形成 操作方法 | ||
【主权项】：
1.一种滤波器结构包括：接地平面，位于集成电路(IC)封装件的第一金属层中；平板，位于所述集成电路封装件的第二金属层中；介电层，位于所述接地平面与所述平板之间，所述接地平面、所述介电层和所述平板由此被配置为电容器件；以及电感器件，位于所述集成电路封装件的第三金属层中，其中，所述电感器件电连接至所述平板。
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