[发明专利]芳环-三芳基吡啶化合物及其制备方法和应用在审
申请号: | 201810442962.0 | 申请日: | 2018-05-10 |
公开(公告)号: | CN108727253A | 公开(公告)日: | 2018-11-02 |
发明(设计)人: | 宛瑜;苑睿;陈雯;王超;王海营;吴翚 | 申请(专利权)人: | 江苏师范大学 |
主分类号: | C07D213/16 | 分类号: | C07D213/16;C09K11/06;H01L51/54 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 楼高潮 |
地址: | 221000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 芳环‑三芳基吡啶化合物的合成方法,通过三芳基吡啶骨架与芳基硼酸作为底物,在催化剂、碱、有机溶剂的协同作用下合成了一系列芳环‑三芳基吡啶化合物,合成工艺所需反应条件温和、反应时间短、产率高,具有广阔的工业化应用前景。设计合成了一种芳环‑三芳基取代吡啶骨架的化合物,研究了不同共轭结构对产物发光性能及其它性质的影响,显示出所合成的芳环‑三芳基吡啶化合物在制备发光材料或电致发光器件中具有广阔的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 三芳基 芳环 吡啶化合物 合成 制备方法和应用 电致发光器件 制备发光材料 反应时间短 工业化应用 发光性能 反应条件 芳基硼酸 共轭结构 合成工艺 取代吡啶 设计合成 有机溶剂 吡啶骨架 产率 底物 催化剂 应用 研究 | ||
【主权项】:
1.一种式(Ⅰ)所示芳环‑三芳基吡啶化合物的合成方法,
所述方法包括:在有机溶剂中,于催化剂、碱存在且避光条件下,式(Ⅱ)化合物和式(Ⅲ)化合物在惰性气氛中进行反应,得到式(Ⅰ)化合物,
其中,R为芳基,X为卤素。
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