[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 201810438334.5 申请日: 2018-05-09
公开(公告)号: CN109326675A 公开(公告)日: 2019-02-12
发明(设计)人: 张宪裕 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L31/102 分类号: H01L31/102;H01L31/0236
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 半导体装置包括管状结构,包括彼此相叠的多个介电层与导体层;导体尖端,与位于管状结构的上表面上的盖导体层整体地形成,其中导体尖端延伸至管状结构的中心孔;以及至少一光检测器,形成于管状结构的底部中。
搜索关键词: 管状结构 半导体装置 导体尖端 导体层 光检测器 介电层 上表面 中心孔 相叠 延伸
【主权项】:
1.一种半导体装置,包括:一管状结构,包括彼此相叠的多个介电层与导体层;一导体尖端,与位于该管状结构的上表面上的一盖导体层整体地形成,其中该导体尖端延伸至该管状结构的一中心孔;以及至少一光检测器,形成于该管状结构的底部中。
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