[发明专利]一种硅片的制绒方法、得到的产品和太阳能电池片的制备方法在审
| 申请号： | 201810415746.7 | 申请日： | 2018-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN108588827A | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 邹帅;叶晓亚;曹芳;王栩生;邢国强 | 申请（专利权）人： | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司 |
| 主分类号： | C30B29/06 | 分类号： | C30B29/06;C30B33/10;H01L31/0236;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋 |
| 地址： | 215129 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种硅片单面制备纳米绒面的方法，(1)将两片硅片叠加得到第一硅片叠加结构；所述硅片叠加的一面为贴合面，暴露的一面为暴露面；(2)对第一硅片叠加结构进行纳米绒面刻蚀；并使得硅片的暴露面具有纳米绒面，贴合面的边缘具有纳米绒面刻蚀带。本发明在纳米绒面刻蚀时，选用特定的刻蚀速率能够在贴合面的边缘刻蚀出纳米绒面，从而降低拆片的拉力，降低拆片过程的碎片率。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 刻蚀 绒面 叠加结构 贴合 制备 叠加 太阳能电池片 暴露面 碎片率 贴合面 暴露 制绒 面具 | ||
【主权项】：
1.一种硅片的制绒方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：(1)将两片硅片叠加得到第一硅片叠加结构；所述硅片叠加的一面为贴合面，暴露的一面为暴露面；(2)对第一硅片叠加结构进行纳米绒面刻蚀；并使得硅片的暴露面具有纳米绒面，贴合面的边缘具有纳米绒面刻蚀带。
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