[发明专利]一种用于磁控溅射的一体式管状钼靶材的制备方法

摘要

一种用于磁控溅射的一体式管状钼靶材的制备方法，包括钼粉或钼合金粉过筛处理的步骤、冷等静压步骤、烧结步骤、空心锻造加工步骤、锻造步骤、退火处理步骤、机加工步骤、喷砂处理步骤、雾化喷涂步骤、清洗及干燥后步骤，制得一体式管状钼靶材。本发明采用大变形量锻造加工与再结晶热处理结合的工艺，实现晶粒组织细化且均匀性良好，使用空心锻造加工方式替代挤压成形，降低了加工设备要求和加工成本。

主权项

1.一种用于磁控溅射的一体式管状钼靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、选取钼粉或钼合金粉，过筛处理，备用；步骤二、将钼粉或钼合金粉装入带有挠性钢芯的管型柔性模具中，冷等静压制成粉质钼管坯；步骤三、将粉质钼管坯装入烧结炉，在氢气或真空环境下，通过烧结获得致密度大于95%的烧结钼管，烧结温度为1800℃~2200℃，烧结时间为6~8h；步骤四、将烧结钼管加热，然后采用空心锻造加工方式，使用模具锻造进行靶管的生产，加热温度为1000℃~1500℃，锻造断面收缩率为5%~50%；步骤五、将锻造完成的靶管进行退火处理，自然降温冷却；其中，退火温度800℃~1300℃，退火保温时间1h~5h；步骤六、热处理完成的靶管机加工至目标要求尺寸，然后进行缺陷探伤和结晶扫描检测；步骤七、对靶管的内壁面进行喷砂处理，实现靶管的内壁面为均匀一致的喷砂面，表面喷砂等级为Sa3；对喷砂处理后的靶管内壁进行洁净处理，并晾干；步骤八、将混合料浆与稀料按照5：1的重量比混合均匀后，通过雾化喷涂装置，均匀喷涂于靶管的内壁面；步骤九、将雾化喷涂完成的靶管置于真空炉中进行烘干处理；步骤十、对烘干完成的靶管使用80℃~100℃热水，对其雾化喷涂涂层进行冲洗，干燥后真空包装，制得一体式管状钼靶材。