[发明专利]天线主副反射面位姿测量系统与副反射面位姿调整方法有效

专利信息
申请号: 201810307554.4 申请日: 2018-04-08
公开(公告)号: CN110345923B 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 孟艳艳 申请(专利权)人: 孟艳艳
主分类号: G01C11/02 分类号: G01C11/02;G01C11/04
代理公司: 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 代理人: 崔旭东
地址: 450000 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明涉及天线主副反射面位姿测量系统与副反射面位姿调整方法,首先对天线主反射面、副反射面分别拍照,获取主反射面坐标系与副反射面坐标系间的初始相对位姿关系,将相机固定在主反射面,保证相机坐标系与天线主反射面坐标系的相对位姿关系不变,然后采用工业相机对副反射面连续拍照,并实时测量天线副反射面坐标系与相机坐标系相对位姿关系,求出天线主、副反射面相对位姿关系,并据此调整副反射面的位姿,可有效改善测量精度,并极大提高测量效率。
搜索关键词: 天线 反射 面位姿 测量 系统 调整 方法
【主权项】:
1.一种天线副反射面位姿调整方法,其特征在于,包括以下步骤:S1)对天线主反射面、副反射面分别拍照,获取主反射面坐标系与副反射面坐标系间的初始相对位姿关系;将一台相机固定到主反射面,保持相机坐标系与主反射面坐标系的相对位姿关系不变;对副反射面拍照,获取副反射面坐标系与相机坐标系的相对位姿关系;S2)将副反射面坐标系作为中间量,根据主反射面坐标系与副反射面坐标系间的初始相对位姿关系、副反射面坐标系与相机坐标系的相对位姿关系,计算得到主反射面坐标系与相机坐标系间的相对位姿关系;S3)再对副反射面拍照,重新获取副反射面坐标系与相机坐标系的相对位姿关系,结合所述主反射面坐标系与相机坐标系间的相对位姿关系,重新确定主反射面坐标系与副反射面坐标系的相对位姿关系;S4)判断所述重新确定主反射面坐标系与副反射面坐标系的相对位姿关系是否满足设定的要求,若不满足,则调整副反射面,再按照步骤S3)中的内容重新确定主反射面坐标系与副反射面坐标系的相对位姿关系,直至满足设定的要求为止。
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