[发明专利]一种局域非晶硅/晶体硅异质结双面太阳电池结构在审

专利信息
申请号: 201810198911.8 申请日: 2018-03-12
公开(公告)号: CN108336164A 公开(公告)日: 2018-07-27
发明(设计)人: 袁吉仁;周浪;黄海宾;高超;岳之浩 申请(专利权)人: 南昌大学
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/0352;H01L31/074
代理公司: 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 代理人: 施秀瑾
地址: 330031 江西省*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种局域非晶硅/晶体硅异质结双面太阳电池结构,以n型晶体硅片为基底,发射极面分为发射极‑导电区域和钝化‑进光区域:前者由本征非晶硅钝化层、重掺杂p型非晶硅层、金属栅线I构成,后者由基底向外依次由重掺杂p型晶体硅场钝化层I、钝化减反射层I构成;背电场面由本征非晶硅钝化层II、重掺杂n型非晶硅层、透明导电氧化物TCO层、金属栅线II,其中,金属栅线II部分覆盖透明导电氧化物TCO层。本发明保持了双面进光特性,同时获得高开路电压和高短路电流的特性,提高了晶体硅太阳电池的发电能力。相比于HIT和HAC‑D结构完全避免贵重的透明导电氧化物的使用,同时减少了载流子在TCO上传输所造成的串联电阻损耗。
搜索关键词: 透明导电氧化物 金属栅线 重掺杂 双面太阳电池 本征非晶硅 钝化层 非晶硅 晶体硅 异质结 钝化 基底 载流子 晶体硅太阳电池 串联电阻 导电区域 短路电流 发电能力 发射极面 减反射层 开路电压 场钝化 电场面 发射极 光区域 光特性 传输 覆盖
【主权项】:
1.一种局域非晶硅/晶体硅异质结双面太阳电池结构,其特征是以n型晶体硅片(6)作为基底,其发射极面分为发射极‑导电区域和钝化‑进光区域:发射极‑导电区域由基底向外依次由本征非晶硅钝化层(3)、重掺杂p型非晶硅层(2)、金属栅线I(1)构成,钝化‑进光区域由基底向外依次由重掺杂p型晶体硅场钝化层I(5)、钝化减反射层I(4)构成,这两个区域交叉分布且不重叠;其背电场面结构由基底向外依次为本征非晶硅钝化层II(7)、重掺杂n型非晶硅层(8)、透明导电氧化物TCO层(9)、金属栅线II(10),其中,金属栅线II(10)部分覆盖透明导电氧化物TCO层(9)。
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