[发明专利]一种基于二维材料/绝缘层/半导体结构的低功耗电荷耦合器件在审

专利信息
申请号: 201810082620.2 申请日: 2018-01-29
公开(公告)号: CN108231817A 公开(公告)日: 2018-06-29
发明(设计)人: 徐杨;郭宏伟;李炜;俞滨 申请(专利权)人: 杭州紫元科技有限公司
主分类号: H01L27/148 分类号: H01L27/148;H01L29/768
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310000 浙江省杭州市富阳区*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于二维材料/绝缘层/半导体结构的低功耗电荷耦合器件,包括组成阵列的若干像素,像素自下而上依次包括栅极、半导体衬底、绝缘层、源极、漏极与二维材料薄膜层;源极和漏极水平间隔布置于绝缘层的上表面;二维材料薄膜层覆盖在源极、漏极及其之间的绝缘层的上表面。入射光照射到本发明的电荷耦合器件表面,被半导体衬底吸收。由于二维材料的特殊性质,其通过电容耦合可以有效收集载流子,产生的光电流信号直接从单个像素结构输出,实现本地读取、随机读取,无需采用像素间横向转移电荷方式,从根本上改变电荷耦合器件的信号读出方式,提高系统整体响应速度、线性动态范围和可靠性。二维材料异质结可以有效降低器件暗电流。
搜索关键词: 二维材料 绝缘层 电荷耦合器件 漏极 像素 源极 读取 半导体结构 薄膜层 低功耗 上表面 衬底 半导体 载流子 光电流信号 单个像素 电容耦合 横向转移 降低器件 水平间隔 系统整体 线性动态 有效收集 电荷 暗电流 入射光 异质结 读出 照射 输出 响应 覆盖 吸收
【主权项】:
1.一种基于二维材料/绝缘层/半导体结构的低功耗电荷耦合器件,包括组成阵列的若干像素,其特征在于,所述像素自下而上依次包括栅极、半导体衬底、绝缘层、源极、漏极与二维材料薄膜层;所述源极和所述漏极水平间隔布置于所述绝缘层的上表面;所述二维材料薄膜层覆盖在所述源极、漏极及其之间的绝缘层的上表面;所述二维材料薄膜层包括两种以上二维材料,不同二维材料之间形成异质结。
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