[发明专利]透射电镜微栅及透射电镜微栅的制备方法有效
| 申请号： | 201810080253.2 | 申请日： | 2018-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN110098099B | 公开（公告）日： | 2020-09-29 |
| 发明（设计）人： | 丛琳;赵伟;张金;蔡裕谦;姜开利;范守善 | 申请（专利权）人： | 清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/20 | 分类号： | H01J37/20;H01J37/22;H01J9/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区清*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种透射电镜微栅及透射电镜微栅的制备方法。所述透射电镜微栅包括一多孔氮化硅基底和一设置于多孔氮化硅基底表面的石墨烯层，所述多孔氮化硅基底具有多个通孔，所述石墨烯层覆盖所述多孔氮化硅基底的多个通孔并在所述多个通孔的位置悬空。所述透射电镜微栅的制备方法为利用一碳纳米管膜结构将一石墨烯层转移至一多孔氮化硅基底的表面，然后去除所述碳纳米管膜结构，从而得到一透射电镜微栅。 | ||
| 搜索关键词： | 透射 电镜微栅 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种透射电镜微栅，其包括一多孔氮化硅基底和一设置于所述多孔氮化硅基底表面的石墨烯层，所述多孔氮化硅基底具有多个通孔，所述石墨烯层覆盖所述多孔氮化硅基底的多个通孔并在所述多个通孔的位置悬空。
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