[发明专利]透明导电膜的形成方法以及电镀用镀敷液有效
| 申请号： | 201780076688.3 | 申请日： | 2017-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN110062820B | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 星野秀树;大屋秀信;山内正好;小俣猛宪;新妻直人 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | C25D3/38 | 分类号： | C25D3/38;C25D5/02;C25D7/00;H05K3/18;H05K3/24 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的技术问题在于提供一种导电性优异且镀敷宽度得到抑制的透明导电膜的透明导电膜形成方法以及电镀用镀敷液。该技术问题通过如下方式解决。一种透明导电膜的形成方法，其包括：通过印刷法在透明基材上形成由导电性细线构成的透明导电膜中间体，然后，对所述透明导电膜中间体进行电镀以形成透明导电膜，用于所述电镀的镀敷液中含有氧化剂。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 导电 形成 方法 以及 电镀 用镀敷液 | ||
【主权项】：
1.一种透明导电膜的形成方法，其包括：通过印刷法在透明基材上形成包含导电性细线的透明导电膜中间体，然后，对所述透明导电膜中间体进行电镀以形成透明导电膜，用于所述电镀的镀敷液中含有氧化剂。
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