[发明专利]激光退火装置、带晶化膜基底的检查方法及半导体器件制造方法

摘要

根据本发明实施方式的激光退火装置(1)包括：激光光源(11)，用于发出激光光束(L1)，以使得基底(100)上的非晶膜(101a)结晶化并形成多晶硅膜(101b)；投影透镜(13)，用于会聚所述激光光束，以对硅膜(101)进行照射；探测光源，用于发出探测光束(L2)；光电检测器(25)，用于对透过硅膜(101)的探测光束(L3)进行检测；处理装置(26)，用于计算所述光电检测器所输出的检测信号的检测值的标准差，并根据该标准差，判断所述硅膜(101)的结晶状态。

主权项

1.一种具有晶化膜的基底的检查方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：(A)以激光光束照射一基底上的非晶膜，以使得所述非晶膜结晶化并形成晶化膜；(B)以探测光束照射所述晶化膜；(C)以一光电检测器检测透过所述晶化膜的所述探测光束；(D)改变所述探测光束在所述晶化膜上的照射位置，以获得所述光电检测器的检测信号的多个检测值；以及(E)根据所述多个检测值的标准差，判断所述晶化膜的结晶状态。